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光電製程清潔系列
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在半導體製程中,設備上經plasma氣相層積長出來的二氧化矽及氮化矽薄膜,具有非常緊密的結構。以強酸雖能去除,但是不鏽鋼或鋁合金表面遭到侵蝕變色,比不清洗還糟。 洗威™二氧化矽薄膜清洗劑SMC03,pH 7.0中性的酸鹼值,不傷害金屬表面,是高精度要求的新選擇。
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